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    錐形相位掩模的Talbot圖像
    時間:2022-07-13 23:26來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
    摘要
     
    在傳統的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模?梢詸z測到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會再現柱狀圖案,而在次要像平面中再現孔圖案。
     
     
    建模任務
     
     
    structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
     
    系統建模塊
     
     
    特定位置的Talbot圖案

     
    特定位置的Talbot圖案
     
    不同位置的Talbot圖案

     
    不同位置的Talbot圖案

     
    沿 Z 軸的強度

     
    VirtualLab Fusion技術

      
    文件信息

     
    更多閱覽
    - Ultra-Sparse Dielectric Nano-Wire Grid Polarizers
    - Grating Order Analyzer
    - Modeling of the Talbot Effect
    - Configuration of Grating Structures by Using Interfaces
    - Configuration of Grating Structures by using Special Media
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