元件內部場分析儀：FMM

摘要



元件內部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結構和納米結構內部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結構（透射或反射、電介質或金屬）內部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。

元件內部場分析儀：FMM
 

元件內部場分析器：FMM是光柵光學裝置的獨有功能，可提供光柵結構內部電磁場的可視化。

 

評估模式的選擇

  

 

為了更容易地區分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。

 

評價區域的選擇

  

 

元件內部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內部的場，或者只輸出一個堆�；蚧鶋K（基板）中的場。

 

不同光柵結構的場分布
 

任意形狀的光柵結構可以通過元件內部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：

 

 

光柵結構的采樣
 

雖然分析儀為輸出數據提供了一些采樣選項，但系統中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數足夠）。

 

分解預覽展示了如何根據當前采樣因子對光柵結構進行采樣。

 

光柵結構的充分采樣意味著已經實現了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產生其他影響。

 

 

輸出數據的采樣：一維周期光柵（Lamellar）

 

對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數生成2D橫截面圖像。

 

輸出數據的采樣：二維周期光柵
 

當分析的光柵設置為2D Periodic時，Field Inside Component Analyzer：FMM將通過結構生成一系列二元截面，z方向的采樣參數決定執行的切割次數。